αναζήτηση βιβλίων
βιβλία
Υποστήριξη
Σύνδεση
Σύνδεση
Σε εξουσιοδοτημένους χρήστες είναι διαθέσιμα:
προσωπικές συστάσεις
Telegram bot
ιστορία λήψεων
αποστολή στο Email ή Kindle
διαχείριση λιστών βιβλίων
αποθήκευση στα αγαπημένα
Προσωπικά
Αιτήματα βιβλίων
Εξερευνήστε
Z-Recommend
Λίστες βιβλίων
Τα πιο δημοφιλή
Κατηγορίες
Συμμετοχή
Υποστήριξη
Μεταφορτώσεις
Litera Library
Δωρεά χάρτινων βιβλίων
Προσθήκη χάρτινων βιβλίων
Search paper books
Το LITERA Point μου
Αναζήτηση λέξεων κλειδιών
Main
Αναζήτηση λέξεων κλειδιών
search
1
Advanced Metallization for Ulsi Applications in 1993: Proceedings of the Conference Held October 5-7, 1993, San Diego, California, U.S.A., and
Materials Research Society
Yosi Shacham-Diamand
,
Yasuhiro Horiike
,
David P. Favreau
,
Yosi Shacham-Diamand
,
Yasuhiro Horiike
,
David P. Favreau
,
Berkeley Continuing Education in engineering University of California
deposition
films
temperature
surface
cvd
figure
tungsten
deposited
rate
barrier
layer
reaction
stress
resistance
wafer
wf6
growth
substrate
thickness
grain
shown
shows
silicon
step
resistivity
metallization
diffusion
materials
ratio
oxide
sputtering
observed
ulsi
reduction
annealing
plasma
coverage
sih4
thermal
temperatures
formation
plug
si02
chemical
samples
function
selective
technology
aluminum
layers
Έτος:
1994
Γλώσσα:
english
Αρχείο:
DJVU, 7.32 MB
Οι ετικέτες (tags) σας:
0
/
0
english, 1994
2
Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications
William Andrew
John E.J. Schmitz
tungsten
deposition
wf6
figure
temperature
cvd
step
wafer
selective
silicon
chemistry
rate
reaction
wsix
coverage
oxide
etch
layer
surface
resistivity
approach
selectivity
adhesion
films
thickness
diffusion
poly
reactor
stress
aluminum
growth
hydrogen
obtained
chemical
resistance
interconnect
sih4
contacts
fluorine
ratio
deposited
gate
anneal
silane
soc
materials
tiw
silicide
equation
range
Έτος:
1993
Γλώσσα:
english
Αρχείο:
PDF, 11.81 MB
Οι ετικέτες (tags) σας:
0
/
0
english, 1993
3
Работа в среде пакета ATHENA для проектирования технологии интегральных микросхем : учеб. пособие по дисциплине “Основы САПР в микроэлектронике” для студентов специальностей I-41 01 02 “Микро- и наноэлектр. технологии и системы”, I-41 01 03 “Квант. информ
БГУИР
Нелаев
,
В. В.
athena
сетки
умолчанию
параметры
параметр
моделирования
модели
директива
диффузии
рис
травления
oxide
silicon
используется
структуры
директивы
меню
мкм
директиве
deckbuild
имплантации
материала
примесей
файл
моделировании
модуля
параметров
осаждения
следующая
окисления
nitride
etch
параметра
файла
области
определяет
материал
модель
algaas
method
задания
модуле
ingaas
использоваться
коэффициенты
ptsix
titanium
tungsten
wsix
задает
Γλώσσα:
Russian
Αρχείο:
PDF, 2.69 MB
Οι ετικέτες (tags) σας:
0
/
0
Russian
4
Country Love
Dorsette Chelsea
paden
archie
roxanne
truck
loved
sexy
gently
nashville
shift
russ
memphis
hearing
tonight
cj’s
cradle
hers
parking
bitch
cat’s
interview
missed
softly
tanner
immediately
instantly
jeans
tongue
gotten
cowboys
grateful
headed
hoped
kissing
listening
paden’s
pants
pulling
whispered
excited
listened
moments
stayed
surprise
wink
wrapped
fallen
grabbed
jumped
record
shower
Έτος:
2014
Γλώσσα:
english
Αρχείο:
EPUB, 101 KB
Οι ετικέτες (tags) σας:
0
/
0
english, 2014
1
Ακολουθήστε
αυτόν τον σύνδεσμο
ή αναζητήστε το bot "@BotFather" στο Telegram
2
Στείλτε την εντολή /newbot
3
Εισάγετε ένα όνομα για το chatbot σας
4
Εισάγετε ένα όνομα χρήστη για το bot
5
Αντιγράψτε το τελευταίο μήνυμα από τον BotFather και επικολλήστε το εδώ
×
×